Disponibili gradi di purezza target del niobio MH

Obiettivo di niobio al 99,95% (4N).

● Purezza ultra-elevata con impurità metalliche e gassose estremamente basse

● Plasma stabile, bassa generazione di particelle

● Adatto per film semiconduttori, superconduttori e elettronici di fascia alta-

Obiettivo di niobio al 99,9% (3N).

● Elevata purezza con un eccellente rapporto costi-prestazioni

● Affidabile stabilità allo sputtering per applicazioni di rivestimento industriale

● Adatto per rivestimenti elettronici, ottici e funzionali in generale

Forme bersaglio del niobio MH

Forniamo target di niobio in molteplici geometrie per adattarsi a diversi sistemi di sputtering:

Bersaglio rettangolare/quadrato

● Sistemi di sputtering planari

● Catodi sputtering di magnetron

● Deposizione di pellicola uniforme su un'ampia-area

Bersaglio tubolare

● Sistemi sputtering rotanti

● Tasso di utilizzo target più elevato

● Miglioramento dell'uniformità del rivestimento e dell'efficienza produttiva

(Dimensioni personalizzate e opzioni di incollaggio disponibili su richiesta.)

Intervallo di specifiche del target del niobio MH

Purezza	99.9%, 99.95%
Densità	Maggiore o uguale al 99,9% della densità teorica
Struttura del grano	Fine e uniforme
Finitura superficiale	Ra0,4
Bersaglio rettangolare/quadrato	Lunghezza inferiore o uguale a 3000 mm, larghezza inferiore o uguale a 800 mm, spessore (mm) 1~20 mm
Bersaglio tubolare	Diametro esterno 10-400 mm, parete 2-28 mm

99,95% vs 99,9% – Guida alla selezione

Articolo	Obiettivo Nb 99,95%.	Obiettivo 99,9% Nb
Livello di purezza	Purezza ultra-elevata (4N)	Elevata purezza (3N)
Contenuto di impurità	Estremamente basso	Basso
Qualità della pellicola	Massima uniformità e stabilità	Stabile, di tipo-industriale
Generazione di particelle	Minimo	Basso
Applicazioni tipiche	Semiconduttori, film superconduttori, ricerca e sviluppo	Rivestimenti ottici, pellicole funzionali, produzione di massa
Livello di costo	Più alto	Più economico

Bersaglio rettangolare o tubolare – Guida alla selezione

Confronto	Bersaglio rettangolare/quadrato	Bersaglio tubolare
Compatibilità del processo	Sputtering planare, sputtering magnetron	Sputtering cilindrico
Utilizzo del materiale	20%~30%	70%~85%
Costo di approvvigionamento	Moderare	Molto più alto degli obiettivi a piastra
Efficienza produttiva	Piccoli lotti, rivestimenti multi-varietà	Grandi lotti e rivestimenti continui
Trattamento superficiale	Smerigliatura fine e lucidatura	Macinazione fine, più difficile
Materiali proposti	Niobio puro (99,95%), Nb-1Zr	Niobio puro (99,95%), Nb-1Zr (scopo speciale ad alta temperatura)

Applicazioni tipiche del target niobio MH

Film sottili di semiconduttori

Rivestimenti superconduttori al niobio

Rivestimenti ottici e decorativi

Display e dispositivi elettronici

Ricerca e film funzionali avanzati

Perché scegliere target al niobio MH

● Elevata purezza e prestazioni di sputtering stabili

● Microstruttura uniforme e alta densità

● Diverse geometrie disponibili: rettangolare e tubolare

● Dimensioni personalizzate e soluzioni di incollaggio

● Utilizzo comprovato in applicazioni di rivestimento avanzate

I nostri target di sputtering al niobio offrono purezza affidabile, comportamento di sputtering uniforme e prestazioni della pellicola di alta-qualità per applicazioni esigenti su film sottile.

Produzione personalizzata con target niobio MH

Offriamo soluzioni target personalizzate per il niobio, tra cui:

● Dimensioni non-standard

● Controllo stretto delle tolleranze

● Finiture superficiali speciali

● Requisiti tecnici specifici dell'applicazione-

Si prega di fornire disegni o specifiche dettagliate per la valutazione.

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